很多的人可能不知道,为什么我们国家在芯片制造的工艺上现在还只停留在14nm工艺制程的量产上。其实并不是因为我们中国的实力...

很多的人可能不知道,为什么我们国家在芯片制造的工艺上现在还只停留在14nm工艺制程的量产上。其实并不是因为我们中国的实力技术不行,要知道本身半导体行业起步较晚还能在较短的时间里达到14nm的量产的实力并不差。可为何我们还是无法突破7nm,甚至是更为精细的工艺制程呢?其实是因为我们买不到荷兰SAML的高端光刻机。那么荷兰的光刻机又到底卖给了谁呢?

那么荷兰的光刻机又到底卖给了谁呢,并且已经谈妥了,会选择给英特尔以及三星早就是内定的事情(图1)

在去年ASML公布的数据当中,一共售出了26台高端的EUV光刻机。分别为台积电占据了一大半,而韩国的三星以及美国的英特尔占据了一小半。其中台积电会有一大半的原因很简单,因为台积电是全球最大的芯片工厂,占据全球很大一部分市场份额,选择台积电无疑能够双向共赢。而至于三星和英特尔,则是因为荷兰ASML的背后是有欧美以及韩国财团资本的存在,所以说,会选择给英特尔以及三星早就是内定的事情。

那么荷兰的光刻机又到底卖给了谁呢,并且已经谈妥了,会选择给英特尔以及三星早就是内定的事情(图2)

那么荷兰的光刻机又到底卖给了谁呢,并且已经谈妥了,会选择给英特尔以及三星早就是内定的事情(图3)

而没有高端光刻机的我们,到现在只能实行14nm的量产,甚至连下一步7nm的工艺制程还有些摸不着头脑。可这个时候台积电不仅实现了7nm的量产,甚至已经在投入5nm的工厂建设,预计在今年完成5nm的量产,开启下一步2nm工艺制程的芯片研发进程。可想而知,没有光刻机的我们会和台积电拉开多大的差距。甚至到现在,我们已经因为这个短暂的差距,让我们中国很多企业受到了影响。其中最为严重的就是华为,在美国宣布在芯片供应链上限制华为之后,华为就死死地被美国卡在了脖子。

那么荷兰的光刻机又到底卖给了谁呢,并且已经谈妥了,会选择给英特尔以及三星早就是内定的事情(图4)

当然了,在着急也是没有用的,毕竟心急吃不了热的豆腐,没有光刻机的我们现在要做的不仅仅只是在芯片nm上的自我研发,更重要的是需要储备大量的科技人才,以备今后抓住机会顺势而上。诚如任正非所言,人才才是综合国力竞争的真正核心!

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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